洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间温度不宜超过25度，湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。层流式空气气流运动成一均匀之直线型，空气由覆盖率100%之过滤器进入室内，并由高架地板或两侧隔墙板回风。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面难以清除。相对湿度越高,粘附的越难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产合适湿度范围为35—45%。在洁净室内静电导致的事故有以下几方面；1．静电电引起的静电的电力击打，引起人的不安全和恐惧感，并可造成二次伤害(例如人因受电力击打而摔倒，由摔倒又致伤)；2．静电放电引起的放电电流，可导致诸如半导体元件等***和误动作，例如将50块P-MOS电路放在塑料袋内，摇晃数次后，与非门栅极严重击穿者计39块，失效率竞达78%，这是因为半导体器件对静电放电十分灵敏；3．静电放电产生的电磁波可导致电子仪器和装置的杂音和误动作；4．静电放电的发光可导致照相肢片等感光***；5．静电的力学现象可导致筛孔被粉尘堵塞，纺纱线纷乱，印刷品深浅不均和制品污染；影响生产效率如果车间内生产环境到不到要求或不稳定，那就要停止产品的生产，停下来解决洁净达不到要求的问题，而这样一有大多到要求就要停止工作，那生产的效率肯定跟不上，完不成交货。影响产品质量车间内环境还会影响到产品的质量，例如一些集成电路、精密仪表和微型电机等产品，如果被灰尘颗粒的污染，就会对产品本身造成质量不佳，严重的直接导致产品无法使用，为了防止洁净车间的环境符合要求，就要时常进行检测，防止车间的环境洁净度达不到，而产品却批量生产出来的紧急情况。而相对湿度控制精度高的干蒸汽加湿和电极（电热）式加湿因***较高则多用在相对湿度精度要求严格的恒温恒湿洁净室的空调系统加湿中。)