无尘室、洁净室净化方式静电式净化方式：采用高压静电吸附除尘工作原理。静电式是采用高压静电吸附除尘的工作原理。静电场中的阴极线在高压静电的作用下，产生电晕放电，电晕层中产生大量的负离子，负离子在静电场的作用下，不断地向阳极运动。当空气中粉尘通过电场时，粉尘受到负离子的碰撞带上电荷，带上电荷后的粉尘同样受到静电场的作用，向阳极运动，到达阳极后释放电荷。要解决洁净工作台操作开关使用无效的问题，我们可以采取的排除方法有两个，一插好插头。***洁净用房：一、***洁净***部二、洁净护理单元ICU、NICU三、中心消毒供应室四、其他洁净室（产房、生殖助孕中心、层流病房）洁净***部的建筑装饰应遵循不产尘、不积尘、耐腐蚀、防潮防霉、容易清洁和负荷防火要求的总原则。洁净***部内地面应平整，采用耐磨、防滑、耐腐蚀、易清洗、不易起尘与不开裂的材料制作。有特殊要求的，可采用有特殊性能的涂料地面。洁净***部内部墙面应使用不易开裂、阻燃、易清洗与耐碰撞的材料，墙面必须平整，防潮防霉，Ⅰ、Ⅱ级洁净室墙面可用整体或装配式壁板；Ⅲ、Ⅳ级洁净室墙面也可用大块瓷砖或涂料，缝隙均应抹平。精密电子洁净工程介绍精密电子净化工程亦名无尘室或清净室，目前已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生***学、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来，由于技术之创新发展，对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切，如超大型积体电路之研究制造，已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目，而我公司的设计理念及施工技术在行业中则处于地位。含菌空气在化妆品的制造、静置、灌装、包装等环节极易对产品造成二次污染。我国的洁净室工程开始于20世纪60年代初，在70年代电子工业洁净室特别是半导体集成电路用洁净室的设计、建造发展很快，相继建成一批洁净厂房，并研制成功100级单向流洁净室;与此同时，洁净厂房用设备和材料，如过滤器，洁净工作台、层流罩、洁净烘箱、空气吹渊室、净化型传递窗等相继研制成功，并投入生产，虽然制造质量和某些工程指标与国际水平尚有差距，但已能满足国内部分需求。由过滤器、净化设备和围护结构(墙板、顶棚.地面)组装而成的装配式洁净室研制成功。到20世纪70年代末我国洁净室设计、建造和洁净工程的发展走向成熟阶段。一般要经过初效过滤、中效过滤、过滤等三个过滤段，气流→初效净化→加湿段→加热段→表热段→表冷段→中效净化→风机送风→管道→净化风口→吹入房间带走尘埃***等颗粒→回风百叶窗→初效净化重复以上过程，即可达到净化目的。)