PLD450型脉冲激光镀膜介绍以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司***生产脉冲激光沉积，欢迎新老客户莅临。技术指标：极限真空度：≤6.7×10Pa***真空时间：从1×10Pa抽至5×10Pa≤20min系统漏率：6.7×10-7Pa.L/S；真空室：Ф450球型真空室，基片尺寸：可放置4″可实现公转换靶位描等基片加热可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调。二维扫描机械平台，执行两自由度扫描,控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫,质量流量控制器1路烘烤温度：150℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到800℃）)