在相对湿度较高的环境中，浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键，可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。相对湿度小于50%时并不重要，但当相对湿度在70%左右时，就成为颗粒之间黏附的主要力量。到目前为止，在半导体无尘车间、洁净室中迫切需要适当控制的是光刻胶的敏***。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的要求是严格的水准。实际上，相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。相对湿度的3%的变异将使保护厚度改变59.2A。此外，在高的相对湿度环境下，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的影响;较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性剂，如六二硅氮烷(HMDS)。湿度控制是无尘车间生产必需具备的重要条件湿度控制是无尘车间生产必需具备的重要条件，相对湿度是无尘车间、洁净室运作过程中一个常用的环境控制条件。半导体无尘车间、洁净室中的典型的相对湿度的目标值大约控制在30至50%的范围内，允许误差在±1%的狭窄的范围内，例如光刻区或者在远紫外线处理(DUV)区甚至更小而在其他地方则可以放松到±5%的范围内。近年，在这些规定范围中保持处理空气过程,天津净化工程为大家介绍一下相对湿度有一系列可能使洁净室总体表现下降的因素，其中包括：1、***生长;2、工作人员感到室温舒适的范围;3、出现静电荷;4、金属腐蚀;5、水汽冷凝;6、光刻的退化;7、吸水性。◆电子制造厂万级洁净室内的噪声级（空态）：不应大于65dB(A)◆电子制造厂洁净室垂直流洁净室满布比不应小于60%，水平单向流洁净室不应小于40%，否则就是局部单向流了。◆电子制造厂洁净室与室外的静压差不应小于10Pa，不同空气洁净度的洁净区与非洁净区之间的静压差不应小于5Pa◆电子制造行业万级洁净室内的新鲜空气量应取下列二项中的值：◆补偿室内排风量和保持室内正压值所需的新鲜空气量之和。◆保证供给洁净室内每人每小时的新鲜空气量不小于40m3。◆电子制造行业洁净室净化空调系统加热器，应设置新风，超温断电保护，若采用点加湿时应设置无水保护，寒冷地区，新风系统应设置防冻保护措施。无尘室的送风量，应取下面三项值：1：保证电子制造厂无尘室空气洁净度等级的送风量；2：根据热，湿负荷计算确定电子厂洁净室的送风量；3：向电子制造厂洁净室给的新鲜空气量。净化车间的这些常用设备也必须要了解1、10万级净化车间工作人员和进入洁净室内需先经过缓冲间/风淋室，物品只能从传递窗进入。2、进入10万级净化车间工程区之前***入缓冲区，缓冲区门安装电子互锁，更衣处放置洁净储衣柜，空气清新机。3、在10万级净化车间工程局部需要达到10-1000级地方安装垂直层流工作台，层流罩(FFU)，洁净棚(可移式净化工作棚)，自净器。测洁净室洁净度用激光尘埃粒子计数器。4、10万级净化车间工程进风系统要安装：新风过滤箱，***净化空调(***净化空调要分为初效/中效/三个过滤段)末端有送风口，有必要时还装有净化增压箱。5、10万级净化车间回风系统要安装：回风口，过滤初效器，中效回风箱。以上是建设10万级净化车间所需要的设备，净化车间洁净度的维护离不开这些设备，具体的还需要根据实际情况。)