净化车间参数:换气次数:100000级≥15次;10000级≥20次;1000≥30次。压差:主车间对相邻房间≥5Pa平均风速:10级、100级0.3-0.5m/s;温度冬季gt;16℃;夏季lt;26℃;波动±2℃。湿度45-65%;GMP车间湿度在50%左右为宜;电子车间湿度略高以免产生静电。噪声≤65dB(A);新风补充量是总送风量的10%-30%;照度300LX0洁净室施工及验收规范：建设项目二：HEPA为万，10万级洁净动荡房新建，改建项目空调系统鼓风机终端这款产品。可以净化空调系统广泛应用于电子工业，精密机械，冶金，化工等工业和，制药，食品等部门。此装置由静压室，过滤器，铝合金制的扩散板等标准法兰接口，吸引人的外观，结构简单，使用可靠的。这是具有安装的过滤器的优点，过滤器或罐使用机械压缩密封装置，以确保无泄漏空气安装，密封可靠，良好的净化效果的洁净室和易于更换内的型空气出口，一般去污可以是应用。洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。1级：尘埃易使芯片失效或者稳定性下降，当金属尘埃落于集成电路上时，就可能造成短路。当空气中的酸性离子落在电路上时，可能将电路腐蚀，因此净化空调系统对微电子工业而言至关重要。此外，液晶、光纤的生产也需要1级洁净度的要求。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。设计净化系统***的原则是相邻二级过滤器的效率不能太接近，也不能相差太大。一般采用初效、中效、亚(或)三级过滤器。也可分四级，增加一级过滤器。现在我们***的净化工程已经在朝着节能的方向发展了，除了***人士以外，其他人很少知道净化工程的耗能量特别大，时候普通写字楼的20倍，比美国更发达***高出了15%。看到这些令人心惊的数字，我们***的科学家们从节能的角度出发从根本上出出发，设计出能够节省的相关设备。)