在相对湿度较高的环境中，浓缩水形的毛细管力在颗粒和表面之间形成了连接键，可以增加颗粒与硅质表面的黏附力。相对湿度小于50%时并不重要，但当相对湿度在70%左右时，就成为颗粒之间黏附的主要力量。到目前为止，在半导体无尘车间、洁净室中迫切需要适当控制的是光刻胶的敏***。由于光刻胶对相对湿度极为敏感的特性，它对相对湿度的控制范围的要求是严格的水准。实际上，相对湿度和温度对于光刻胶稳定性以及的尺寸控制都是很关键的。甚至是在恒温条件下，光刻胶的粘性将随着相对湿度的上升而迅速下降。当然，改变粘性，就会改变由固定组分涂层形成的保护膜的厚度。相对湿度的3%的变异将使保护厚度改变59.2A。此外，在高的相对湿度环境下，由于水分的吸收，使烘烤循环后光刻胶膨胀加重。光刻胶附着力同样也可以受到较高的相对湿度的影响;较低的相对湿度(约30%)使光刻胶附着更加容易，甚至不需要聚合改性剂，如六二硅氮烷(HMDS)。车间使用的材料墙面和地板材料必须无尘耐腐蚀耐高温不易断裂不易产生静电，并根据房间的不同工况，但还可以根据实际情况做出选择。压力和气流为了确保车间的清洁，车间的密封必须坚固，以防止外部污染的气流进入车间。为实现这一目标，研讨会必须保持一定的正压力。为了获得所需的压力，必须补充适当的新鲜空气。辅助设备应使用一些辅助设备，以确保净化车间的清洁：如净化车间入口处的空气淋浴房。用于交付物品的转移窗口，这些设备必须适合净化车间的净化要求，以充分保证使用不会影响车间和发挥作用。净化车间人员和物体的控制是无尘车间的主要粉尘来源。当然，生产设备也会产生灰尘，但人和是的灰尘来源。因此，必须完全控制，例如在进入洁净室之前，所有人都必须穿过敷料，净化浸湿系统，并限制员工数量。物品交付时，必须消毒然后交付，交付必须以正确的方式进行。洁净度工艺制品车间如何正确选用参数的问题。根据不同的工艺制品，如何正确选用设计参数，是设计中的根本问题。GMP中提出了重要指标，即空气洁净度级别，空气洁净度级别是评介空气洁净环境的核心指标。空气洁净度级别制定的不准确，就会出现大马拉小车的现象，即不经济也不节能。如30万级的标准产生于局的一个包装新规范，目前用于主要制品工艺中则不妥，而用于一些辅助房间效果就很好。因此，选择什么样的级别直接关系到产品的质量和经济效益。影响洁净度的尘源主要来自工艺生产过程中的物品产尘，操作人员的流动及室外新风所带大气尘粒等，控制尘源进入室内的有效手段除对产尘工艺设备采用密闭式排风除尘装置外，对空调系统的新回风和人员通行吹淋室采用粗、中、三级过滤。)