瓷砖真空镀膜设备经瓷砖真空镀膜设备加工后的瓷砖更具有光泽，耐磨指数大大提高，可以生产仿金色、玫瑰金色、银白色、黑色等膜层。瓷砖真空镀膜设备主要用于瓷砖、瓷片、陶瓷砖等离子镀膜。该系列设备主要配置为阴极电弧蒸发源，也有配偏压电源，也有配磁控溅射靶。设备特点：配强大抽气系统，抽气快，装载量大，产能高，生产成本低。可以生产仿金色、玫瑰金色、银白色、黑色等膜层；采用贴花纸和涂覆水溶性涂料遮挡技术可以得到各种彩色花纹图案。经瓷砖真空镀膜设备加工后的瓷砖更具有光泽，耐磨指数大大提高。真空镀膜机溅射镀膜与蒸发镀膜的区别：蒸发镀膜是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。溅射镀膜可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。真空镀膜机设备溅射镀膜又分为很多种，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差（因为是脉冲溅射），晶向（外沿）生长的控制也比较一般。影响镀真空镀膜机为塑料件镀膜时抽真空时间长的原因影响镀真空镀膜机为塑料件镀膜时抽真空时间长的原因磁控靶点火电压的几个因素在工作气体种类、成分、气压和阴极材料已确定及其它条件不变的条件下，镀膜机阴-阳两极间的气体放电点火电压的高低可由巴-刑定律来说明，气体点燃电压Uz不仅和气压P、极间距d有关，而且和P与d的乘积有关(即Uz是P×d乘积的函数，不是单独是P或d的函数)。巴-刑曲线的左侧与下侧是不能形成自持放电区域;右上侧是可以形成稳定自持放电区域;磁控溅射通常工作在巴-刑曲线的左支。利用这个规律，在放电部件(磁控靶、引出电极等)的结构设计中，通过调整结构间隙的手段来控制各电极对屏蔽罩、金属腔体间的放电和打弧。)