镀膜技术在信息存储领域中的应用薄膜材料作为信息记录于存储介质，有其得天独厚的优势：由于薄膜很薄可以忽略涡流损耗；磁化反转极为迅速；与膜面平行的双稳态状态容易保持等。车灯镀膜机为了更精密地记录与存储信息，必然要采用镀膜技术。镀膜技术在传感器方面的应用在传感器中，多采用那些电气性质相对于物理量、化学量及其变化来说，极为敏感的半导体材料。真空电镀设备膜厚的不均匀问题无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。真空区域划分低真空105Pa-102Pa中真空102Pa-10-1Pa高真空10-1Pa-10-5Pa超高真空10-5Pa-10-9Pa极高真空lt。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供高性能的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化小化等方面。现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。广泛应用于汽车、音响、各类小家电、电脑、钟表、玩具、手机、反光杯、化妆品、玩具等行业。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。真空镀膜机-操作步骤一、电控柜的操作;开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。)