对于真空镀膜加工单片膜色不均匀产生的原因主要是由于基片凹凸严重，与伞片曲率差异较大，基片上部、或下部法线与蒸发源构成的蒸发角差异较大。造成一片镜片上各部位接受膜料的条件差异大，形成的膜厚差异大。?另外镜片被镜圈（）边缘部遮挡、镜圈（）脏在蒸镀时污染镜片等等也会造成膜色差异问题。?改善思路：改善镜片边缘的蒸发角。改善对策：?㈠?条件许可，用行星夹具；?㈡?选用伞片平坦（R大）的机台；?㈢?根据伞片孔位分布，基片形状，制作专门的锯齿形修正板。?㈣?如果有可能，把蒸发源往真空室中间移动，也可改善单片的膜色均匀性。?㈤?改善镜圈（），防止遮挡。?㈥?注意旋转伞架的相应部位对边缘镜片的部分遮挡?㈦?清洁镜圈（）?㈧?改善膜料蒸发状况。真空镀膜②光密度法。光密度(OD)定义为材料遮光能力的表征。光密度没有量纲单位，是一个对数值，通常仅对镀铝薄膜和珠光膜进行光密度测量。光密度是入射光与透射光比值的对数或者说是光线透过率倒数的对数。计算公式为：OD=lg（入射光／透射光）或OD=lg（1／透光率）通常镀铝膜的光密度值为l～3(即光线透过率为0.10/0~10%)，数值越大镀铝层越厚。光密度OD值、方阻值对应的铝层厚度如表6-7所示。表6-70D值、方阻值和铝层厚度对照表光密度OD值电阻值Ohm/Square方阻值铝层厚度A1.633201.82.73602.02.354002.22.054402.41.84802.61.555202.81.35603.01.0600真空镀膜加工与电镀全是两回事儿。真空镀膜加工是把物体放入真空室里，在真空状态下把所要镀的金属加热蒸发，然后被镀物体在里面转动把金属颗粒吸附在被镀物体表面，镀后为了不使金属颗粒氧化在表面再喷透明面油从而增加结合力和隔离空气。一般来说真空镀膜加工不能镀的材料是那些表面柔软易变形的材料，还有就是不易干燥的材料。电镀一般是ABS塑料才可以处理成导电体再电镀。真空镀膜加工使用过程中需要使用水吗？会产生什么废气真空镀膜加工腔体里面是不允许有水的，否则就抽不了真空，不过镀膜机是需要有冷却水循环冷却，至于废气还是要分抽真空镀膜腔体内的空气，还是指抽高真空后真空腔体内溢出的水蒸气和油气分子。)