GMP的目标是确保建立科学的、严格的无菌***生产环境、工艺、运行和管理体系，da限度地消除所有可能的、潜在的生物活性、灰尘、热原污染，生产出高品质的、卫生安全的产品。通过对生物制药客户生产环境的深入研究和工程经验积累，我们清楚了解生物制药生产过程环境控制的关键;节能是我们系统方案优先考虑的***;我们可以提供从GMP整厂规划设计——人liu物流净化方案、洁净空调系统、洁净装饰系统;整厂节能改造、水电、超纯气体管道、洁净室监测、维护系统等全mian安装配套服务。无菌室只是相对广泛的概念，其按洁净度可分为30万级、10万级、万级、百级、以及10级.（.超净台一般是经过高xiao空气过滤器正压吹向样品，净化厂房，可以防止样品在操作过程中交叉污染.但如果你的无菌室设计的是百级的，万级净化厂房，那就可以代替超净工作台.如果无菌室设计的是万级或十万级的，而样品要求在百级操作环境下操作.那就不能替代超净台了.可承建十万级、万级、千级、到百级的各类GMP净化工程。公司拥有一支高素质的工程设计、安装和技术监督***，每项工程从设计到施工都紧密配合，严格把握工程的质量关，设计承接不同类型，不同规模，不同净化级别的工业厂房净化系统。洁净室中的温湿度控制：洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。2、风淋室的使用：（1）进入洁净无尘室的人员应在外更衣室脱去外衣，除下手表、手机、饰品等物品。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。钢质净化门如今作为洁净室和实验室内***为常用的洁净门，已经被广泛应用于***、药厂车间、食品车间以及洁净实验室等各个行业的净化工程领域之中。对于硅片生产蕞佳温度范围为35—45%。保证洁净室内洁净度的措施：1、进入洁净室物料的净化进入洁净室的物料一般来讲应在运入洁净室之前进行清洗和必要的净化处理，以减少物料在洁净室内的发尘量。进入洁净室的小件物品一般由洁净室与外走廊或洁净室也洁净室之间（洁净度级别不同的相邻房间）通过传递窗进入。传递窗一般有箱式型、回转式等。2、进入洁净室内的空气是洁净的净化空调系统在运行中，所使用的各级空气过滤器必须是完好而无损坏和泄漏现象。，净化空调系统在运行中，为防止送风系统将不应进入室内的尘粒带进室内，必须对系统中使用的初效、中效及末端空气过滤器进行定期的泄漏检查。)