企业视频展播，请点击播放视频作者：巩义市佰润商贸有限公司Si3N4陶瓷材料作为一种优异的高温工程材料氮化硅的许多特性都归结为在此构造。纯Si3N4为3119，有α和β二种分子结构，均为六角晶型，其溶解温度在空气中为1800℃，在110MPa氮中为1850℃。Si3N4线膨胀系数低、导热率高。压合煅烧的氮化硅加温到l000℃后资金投入凉水中也不容易。不在太高的温度下，Si3N4具备较高的强度和耐冲击性，但在1200℃之上会随使用时间的提高而出現损坏，使其强度减少，在1450℃之上更易出現疲惫毁坏，因此Si3N4的应用温度一般不超过1300℃。Si3N4将来的发展前景是：⑴充分运用和运用Si3N4自身所具备的出色特点；⑵在Si3N4粉末状煅烧时，开发设计一些新的助熔剂，科学研究和操纵目前助熔剂的成份；热压烧结法（HPS)是将Si3N4粉末和少量添加剂（如MgO、Al2O3、MgF2、Fe2O3等），在1916MPa以上的压强和1600℃以上的温度进行热压成型烧结。⑶改进制粉、成形和烧结法；⑷研发Si3N4与SiC等原材料的复合化，便于制得大量的高分子材料。它耐热，强度一直能够保持到1200℃的高溫而不降低，遇热后不容易熔成融体，一直到1900℃才会溶解，并有令人的耐溶剂腐蚀能，能耐基本上全部的强氧化剂和30%下列的水溶液，也能耐许多柠檬酸的浸蚀；另外也是一种电绝缘层材料。废弃氮化硅瓷器便是历经应用之后，毁坏或是损坏的氮化硅产品，Si3N4瓷器是一种化学键化学物质，基础结构单元为[SiN4]四面体，硅原子坐落于四面体的正中间，在其周边有四个氮原子，各自坐落于四面体的四个端点，随后以每三个四面体同用一个分子的方式，在三维空间产生持续而又牢固的网络架构。热压烧结法(HPS)是将Si3N4粉末和少量添加剂(如MgO热压烧结法（HPS)是将Si3N4粉末状和小量防腐剂（如MgO、Al2O3、MgF2、Fe2O3等），在1916MPa之上的气体压强和1600℃之上的温度开展热压成形烧结。烧结时添加剂和物相构成对商品特性有非常大的危害。因为严控位错相的构成，及其在Si3N4陶瓷烧结后开展适度的热处理工艺，因此能够得到即便温度达到1300℃时强度（达到490MPa之上）也不会显著降低的Si3N4系陶瓷材料，并且抗应力松弛性可提升三个量级。若对Si3N4陶瓷材料开展1400———1500℃高溫预空气氧化解决，则在陶瓷材料表层上产生Si2N2O相，它能明显提升Si3N4陶瓷的耐还原性和高溫强度。热压烧结法生产制造的Si3N4陶瓷的物理性能比反映烧结的Si3N4要出色，强度高、密度大。1、氮化硅结合碳化硅制品，质地坚硬，莫氏硬度约为9，在非金属材料中属于硬度材料，仅次于金刚石。但制造成本高、烧结机器设备繁杂，因为烧结体收拢大，使商品的规格精密度遭受一定的限定，无法生产制造繁杂零件，只有生产制造样子简易的零件产品，产品工件的机械加工制造也较艰难。氮化硅砖是指以氧化镁(MgO)和三氧化二铬(Cr2O3)为主氮化硅砖就是指以氧化镁(MgO)和三氧化二铬(Cr2O3)为主要成分，方镁石和尖晶石为关键矿物质成分的耐火保温材料产品。这种砖耐火度高，高温抗压强度大，抗偏碱渣侵蚀性强，热稳定性，对酸性渣也是有一定的适应能力。氮化硅（Si3N4）存有有3种结晶体构造，分别是α、β和γ三相。制得方式氮化硅砖选用硅粉渗氮后煅烧或压合方式制得。烧造氮化硅砖的生产工艺流程与镁质砖大致差不多。以便清除砖在烧制全过程中因为MgO和Cr2O3、Al2O3或立即融合氮化硅砖。优势氮化硅砖耐火度高，高温抗压强度大，抗偏碱渣侵蚀性强，热稳定性，对酸性渣也是有一定的适应能力。运用用以航空公司、冶金工业、机械设备、半导体材料等工业生产中生产制造高温滚动轴承、冶金工业钳锅、半导体材料地区冶炼舟器等。氮化硅是一种关键的构造结构陶瓷。它是一种超硬化学物质，自身具备润湿性，而且抗磨损，为原子晶体；高温时。而且它还能抵抗冷热冲击，在空气中加热到1000℃以上，急剧冷却再急剧加热，也不会碎裂。并且它还能抵御热冷冲击性，在空气中加温到1000℃之上，大幅度制冷再大幅度加温，也不会。)