真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。真空镀膜技术是利用物理、化学手段将固体表面涂覆一层特殊性能的镀膜......1、真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。?真空镀膜厂家五金真空镀膜厂真空镀膜厂家真空电镀设备的监控方法随着基础工业及高新技术产品的发展，对表面改性及涂层技术的需求向纵深延伸，国内外在该领域与相关学科相互局势下，表面改性与涂层工艺模拟和性能预测等方面都有着突破的进展。以下就和大家介绍一下真空电镀设备的监控方法：目视监控：使用眼睛监控，因为薄膜在生长的过程中，由于干涉现象会有颜色变化，我们就是根据颜色变化来控制膜厚度的，此种方式有误差，所以不是很准确，需要依靠经验。?真空镀膜加工五金真空镀膜厂真空镀膜加工已有200年的历史。在19世纪可以说一直是处于探索和预研阶段。探索者的艰辛在此期间得到充分体现。1805年,开始研究接触角与表面能的关系(Young)。1817年,透镜上形成减反射膜(Fraunhofer)。1839年,开始研究电弧蒸发(Hare)。开始研究真空溅射镀膜(Grove；Pulker)。1857年,在氮气中蒸发金属丝形成薄膜(Faraday；Conn)。1874年,报道制成等离子体聚合物(Dewilde；Thenard)。1877年,薄膜的真空溅射沉积研究成功(Wright)。1880年,碳氢化合物气相热解(Sawyer；Mann)。1887年,薄膜的真空蒸发(坩埚)(Nahrwold；Pohl；Pringsheim)。开始研制形成减反射膜的化学工艺。研究成功四氯化钨的氢还原法(CVD)；膜厚的光学干涉测量法(Wiener)。对于真空镀膜加工单片膜色不均匀产生的原因主要是由于基片凹凸严重，与伞片曲率差异较大，基片上部、或下部法线与蒸发源构成的蒸发角差异较大。造成一片镜片上各部位接受膜料的条件差异大，形成的膜厚差异大。?另外镜片被镜圈（）边缘部遮挡、镜圈（）脏在蒸镀时污染镜片等等也会造成膜色差异问题。?改善思路：改善镜片边缘的蒸发角。改善对策：?㈠?条件许可，用行星夹具；?㈡?选用伞片平坦（R大）的机台；?㈢?根据伞片孔位分布，基片形状，制作专门的锯齿形修正板。?㈣?如果有可能，把蒸发源往真空室中间移动，也可改善单片的膜色均匀性。?㈤?改善镜圈（），防止遮挡。?㈥?注意旋转伞架的相应部位对边缘镜片的部分遮挡?㈦?清洁镜圈（）?㈧?改善膜料蒸发状况。)