镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。光学镀膜材料的原材料，绝大部分属于储量非常小的稀有金属。用刚氧化的铝容器贮存玻璃衬底，可使碳氢化合物蒸气的吸附减至小。这些稀有金属随着科技的发展，其需求长期看涨。随着镀膜技术的不断推广，光学镀膜技术的应用领域也在不断拓宽，随着我们生活水平的提高，这些具有优***理特性的金属将为我们的生活带来更多的精彩。高真空离子镀适用范围比较广，如ABS料、ABSPC料、PC料的商品。传统水电镀技术流程杂乱、环境污染大、设备成本高、对作业人员身体伤害大，电镀出来产品外观损坏大，产品稳定性差。为什么要在真空镀膜工艺之前在基材表面先喷一层底漆呢？因为塑料基材外表可能不平滑，如果没有先喷底漆直接使用高真空镀膜的话，如果客人要求很高，产品可能会因为工件外表不光滑，而使加工出来的产品光泽度相对会低一点，金属质感相对也会有所下降，如果基料有气泡，水泡这状况更高明显，就无法满足客人需求。塑料中含有水分、残留溶剂、单体、低聚合物、增塑剂等，挥发性小分子会在真空或升温环境下逸出表面，严重影响真空镀层对基材的附着力，而采用底涂技术就可阻碍这些小分子的逸出，提高真空镀层对基材的附着力。真空镀膜的方法很多，计有：(1)真空蒸镀：将需镀膜的基体清洗后放到镀膜室，抽空后将膜料加热到高温，使蒸气达到约13.3Pa而使蒸气分子飞到基体表面，凝结而成薄膜。一般镀件表面都存在微观不平整度，不一定厚度涂料的整平性，可以填补镀件表面的缺陷，使镀件表面达镜面平整度。(2)阴极溅射镀：将需镀膜的基体放在阴极对面，把惰性气体(如)通入已抽空的室内，保持压强约1.33～13.3Pa，然后将阴极接上2000V的直流电源，便激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基体上形成膜。(3)化学气相沉积：通过热分解所选定的金属化合物或有机化合物，获得沉积薄膜的过程。(4)离子镀：实质上离子镀系真空蒸镀和阴极溅射镀的有机结合，兼有两者的工艺特点。表6-9列出了各种镀膜方法的优缺点。Parylene特别适合用于铁氧体材料(磁环、磁芯)等电子组件的镀膜，镀膜后的电子组件其涂膜附着力强、耐磨性好、硬度高、抗高电压绝缘性强，漆膜外观细腻均匀、柔滑、触感极佳。上伞,将镜片从包装盒内装到镀膜机台伞架上(主意带手套拿取镀膜板四周,勿碰到镜片。耐漆包线的绕线性强，漆膜不裂伤。同时可以增加铁氧体等磁性材料的介电性及耐高压性能，可以克服普通环氧树脂喷涂处理后不耐酸、磨等方面的缺陷。Parylene涂层能在磁性材料表面形成均匀一致的绝缘防护涂层！)