小方分子提纯设备钙钛矿镀膜机厂小方分子提纯设备主要用途：用来生长有机材料提纯的研究工作。系统组成:该类设备为单室结构。技术指标：极限真空≤610-4Pa，工作压力≤2*10-3Pa；系统漏率≤6.7×10-7PaL/s。镀膜室：腔室尺寸约为Φ50×350mm，石英材料，圆柱形结构。抽气系统：采用分子泵机械泵抽气系统；样品可加热，加热温度为：200-600℃；可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统想要了解更多电阻热蒸发镀膜产品的相关内容，请及时关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司网站。)