GMP车间要进行消毒灭菌，可采用干热灭菌、湿热灭菌、辐射灭菌、气体灭菌、消du剂消毒。现介绍辐射灭菌，主要适用于热敏性物质或产品的灭菌，但必须证明该射线对产品无害。紫外线辐射消毒具有一定的杀菌效力，但在使用中存在不少问题，紫外线灯管的强度、洁净度、环境湿度和距离等诸多因素都会影响消毒效果，另外其消毒效果不高，不适用于有人员活动的空间和有气流流动的空间，这些原因使紫外线消毒不被国外GMP接受。紫外线灭菌对暴露对象需长时间照射，对于室内辐照，当要求灭菌率达到99%时，一般细jun的照射剂量约为10000-30000uw.S/cm。洁净室中的温湿度控制：洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。一支距地面2m的15W的紫外灯，其照射强度约为8uw/cm，则需照射1h左右才行，而在这1h之内被照射场所不能进入，否则对人的皮肤细胞也有损坏，有明显的致哎的作用。无菌室使用前必须打开无菌室的紫外灯辐照灭菌30分钟以上，并且同时打开超净台进行吹风。操作完毕，应及时清理无菌室，再用紫外灯辐照灭菌20分钟。供试品在检查前，应保持外包装完整，不得开启，以防污染。检查前，无菌车间，用70%的酒精棉球消毒外表面。每次操作过程中，均应做阴性对照，以检查无菌操作的可靠性。公司拥有一支高素质的工程设计、安装和技术监督***，每项工程从设计到施工都紧密配合，严格把握工程的质量关，设计承接不同类型，不同规模，不同净化级别的工业厂房净化系统。洁净室中的温湿度控制：洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。提高送风量，无疑就是对风机的工况提出了更高的要求，由此还带来不锈钢风淋室的噪声、功耗的提高，风机体积的增大，使用寿命的下降等。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。通风工程是无尘车间公司在建设洁净车间时必须***考虑的问题，通风机的工作原理与透平压缩机基本相同，只是由于气体流速较低，压力变化不大，一般不需要考虑气体比容的变化，即把气体作为不可压缩流体处理。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产蕞佳温度范围为35—45%。电子净化工程一般包括：1、洁净生产区2、洁净辅助间（包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等）3、管理区（包括办公、值班、管理和休息等）4、设备区（包括净化空调系统应用、电气用房、高纯水和高纯气用房、冷热设备用房）无尘净化车间是指将一定空间范围内空气中的微粒子，***气体等污染物排除，并将室内温度，洁净度，室内压力，气流速度与气流分布，噪音震动及照明，静电控制在某一需求范围内，而给予特别设计的房间。其室内均能具有维持原先设定要求的洁净度，温湿度及压力等性能。精密的电子产品主要是在百级以上无尘车间（含百级无尘车间）内生产出来的。)