PVD技术制备的镀层的稳定性好、膜基结合力高、致密度高,在冷热交变环境下的防腐能力较强;另外,在PVD施镀过程中,镀层厚度受磁体工件边角的影响远低于电镀和化学镀,且制备过程不存在污染问题。1、镀膜技术在装饰品方面的应用随着经济的发展和生活水平的提高，人们喜欢将手表壳、表带、服饰、灯饰、眼镜架、室内外装饰件、五金箱包、手机壳、手机视屏、卫生洁具、食品包装等装饰品精饰得五彩缤纷。镀膜技术在建筑玻璃和汽车玻璃上的应用建筑玻璃有透光和隔热两个基本功能。普通玻璃能透过绝大部分太阳光辐射能量，这对采光和吸收太阳光线的能量十分有利。而对于空间红外辐射，普通玻璃虽能阻止室内的热量直接透过室外，但热量被玻璃吸收后的二次散热也会造成很大的损失。随着经济的发展，普通玻璃已越来越不能满足人们的要求。由于辐射传热与温度的4次方成比例，所以在850℃以下辐射效果不高，工件加热速度很慢。而阳光控制膜和低辐射膜正好能弥补了普通玻璃在这一方面的不足。阳光控制膜可以满足低纬度地区降低室内温度的要求；而低辐射膜则能满足高纬度地区充分接受太阳辐射能量和阻止室内热量外流的要求。真空电镀设备膜厚的不均匀问题无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。如果真空电镀设备此位置的膜厚不是均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响化。在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供高性能的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化小化等方面。现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。镀膜技术在光学仪器中的应用人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀膜技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。镀膜技术在光学仪器中的应用人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀膜技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。1.真空在空间内，低于环境大气压力的气体状态。2.真空度表示真空状态下气体的稀薄程度，通常用压力值来表示。3.真空区域划分低真空105Pa-102Pa中真空102Pa-10-1Pa高真空10-1Pa-10-5Pa超高真空10-5Pa-10-9Pa极高真空lt;10-9Pa4.全压力混合气体中所有组分压力的综合。)