国内外实践证明，大功率电子枪是钢带连续真空镀膜工艺的理想热源。这是因为（1）电子枪发射的电子束经聚焦后可达到极高的能量密度，轰击坩埚镀膜材料，可使其温度达到3000℃以上，远比电弧温度高。（2）电子束能量转化率高达80%-90%，采用磁偏转系统可以方便地进行电子束聚焦和扫描，加热均匀。（3）电子束只轰击镀膜材料表面，不会由于其它材料的掺入而引起夹杂问题。（4）电子枪蒸发镀膜机使用时的束斑直径、电功率、加束电压、扫描轨迹、频率等参数都容易实现调节。（5）使用电子枪还可以在钢带镀膜生产过程中对被镀钢带进行真空预热，就是使用电子枪清洁钢带，轰击表面使其活化。通过电子束不停的扫描，钢带表面温度控制在200~550℃，这种预热是钢带镀膜和提高镀膜附着力所必须的。镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。光学镀膜是在光学干涉原理，在可见光和红外线波段范围内，使反射率在78-98%之间，以达到透光率，光学镀膜技术一直是光学领域中不可忽略的重要基础技术。在我们的日常生活中，光学镀膜随处可见，如平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品，或者是上的防伪技术，领域的各种设备、军事领域的等等。普遍的是在太阳光下看手机屏的字，由于反射光透不强，屏幕模糊，这需要屏幕的光学镀膜来达到透射清晰效果。化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。真空镀膜技术与湿式镀膜技术相比较，具有下列优点：(1)薄膜和基体选材广泛，薄膜厚度可进行控制，以制备具有各种不同功能的功能性薄膜。膜厚稳定性好，由于溅射镀膜膜层的厚度与靶电流和放电电流具有很大的关系，电流越高，溅射效率越大，相同时间内，所镀膜层的厚度相对就大了，因为只要把电流数值控制好，需要镀多厚，或者多薄的膜层都可以了。(2)在真空条件下制备薄膜，环境清洁，薄膜不易受到污染，因此可获得致密性好、纯度高和涂层均匀的薄膜。(3)薄膜与基体结合强度好，薄膜牢固。(4)干式镀膜既不产生废液，也无环境污染。?微电子、半导体：使用高纯的Parylene作钝化层和介质层，能提供安全、稳定的防护。?传感器和换能器：自动化控制和恶劣环境下使用的传感器、换能器，Parylene涂层防护可以提高环境适应性和可靠性，涂层无，且具有防潮功能。各种传感器传感部件及弯曲管。适用于各种恶劣环境。?Parylene适用于微机电(MEMS)、半导体领域之优点*能进行微米级微细制作和加工；*与其它微细结构材料有很好的相容性；*在微细结构中仍具有优良的电性能和物理机械性能；*对微电子机械系统的使用环境有很好的相容性和防护性)