公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！光刻工艺主要步骤准备基底在涂布光阻剂之前，先把硅片进行处理，经过脱水烘培蒸发掉硅片表面的水分，并涂上用来增加光刻胶与硅片表面附着能力的化合物；涂布光阻剂(photoresist)将硅片放在一个平整的金属托盘上，托盘内有小孔与真空管相连，硅片被吸在托盘上，这样硅片就可以与托盘一起旋转；光掩膜除开运用于集成ic生产制造外，还普遍的运用与像LCD，PCB等层面。普遍的光掩膜的类型有几种，铬版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。关键分2个构成，基钢板和不透原材料。基钢板一般是高纯，低透射率，低线膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透层是根据溅射的方式镀在夹层玻璃正下方厚约0.1um的铬层。铬的强度比夹层玻璃略小，虽不容易损伤但是将会被夹层玻璃所损害。运用于集成ic生产制造的光掩膜为高敏***的铬版。公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！去胶刻蚀或离子注入之后，已经不再需要光刻胶作保护层，光刻版，可以将其除去，称为去胶，分为湿法去胶和干法去胶。光刻的优点1、地控制形成形状的大小和样子2、它可以同时在整个芯片表面产生外形轮廓。缺点1、必须在平面上使用，在不平的表面上效果略差；2、对生产环境的清洁度要求极高！光刻版厂-上海光刻版由苏州优版光电有限公司提供。行路致远，砥砺前行。苏州优版光电有限公司（）致力成为与您共赢、共生、共同前行的战略伙伴，与您一起飞跃，共同成功!)