洁净室中的温湿度控制：洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。如果无尘洁净室生产的产品要防静电，则还要经过“静电桥”彻底地消除身上的静电。例如在大规模集成电路生产的光刻***工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。一支距地面2m的15W的紫外灯，其照射强度约为8uw/cm，则需照射1h左右才行，而在这1h之内被照射场所不能进入，否则对人的皮肤细胞也有损坏，有明显的致哎的作用。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产蕞佳温度范围为35—45%。万级电子无尘车间厂房特点:洁净度等级要求高,风量、温度、湿度、压差、设备排风按需受控,照度、洁净室截面风速按设计或规范受控，另外该类洁净室对静电要求极其严格。需要洁净的区域越大，无尘洁净棚与无尘车间的成本相比差别会越小。其中对湿度的要求尤甚。因为过于干燥的厂房内极易产生静电，造成CMOS集成损坏。一般来说，电子厂房的温度应控制在22℃左右，相对湿度控制在50-60%之间（特殊无尘车间有相关温湿度规定）。这时可有效地消除静电，并使人也感觉舒适。化妆品无尘车间微生物的污染与控制首先要从生产工艺厂房布局入手，净化工程的空气质量，人员管理以及化妆品所需设备和仪器非常重要。化妆品的生产质量与所处环境密切相关。无尘净化车间工程高标准的等级要求，只要大家能够细心的做好每一步，也就没什么问题了。无尘净化车间其应掌握的内容，粒子或菌类危害程度。随着我国国民经济的发展、社会的进步和人民生活水平的提高，洁净厂房已广泛应用于电子、生物、食品、航空、航天、精密仪器制造等各行各业中。无尘室内的产品所要求的洁净度。无尘室尘源及其控制。工艺操作对洁净度的影响。洁净度、测定仪器、测定方法和评价方法的知识。净化设备和系统的使用规程，故障排除方法。本无尘室的构造和性能。安全措施，卫生措施。对无尘室工作人员进行训练的内容一般包括如下几个方面。按规定的方法练习脱去个人服装并保管起来。按规定的方法练习穿洁净工作服，按规定的方法练习洗手、烘干，使用无尘室专用纸巾。做不拖足行走的练习，做带进无尘室器材的清洁净化练习。练习使用无尘室的消防器材。净化车间温度、湿度的测试方法：1、GMP净化车间温度的测试：应将洁净工作区划分为等面积的栅格，每个分格面积不超过100平方米或与建设方协商确定，每格测点1个以上，每个房间测点至少2个。亦即是不论外在之空气条件如何变化，其室内均能俱有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能之特性。测试高度应为工作面高度，距的吊顶、墙面和地面不小于300MM，并应考虑热源等的影响，测量时间应至少1H，并至少6min测量一次，读数稳定后做好记录。净化车间一般温度测试的测点，每个温度控制区或每个房间1个测点，测试点高度宜为工作面高度，测量时间应至少1H，并至少6min测量一次，读数稳定后做好记录。2、净化车间湿度的测试：湿度测试可采用通风干湿球湿度计、电容式湿度计、数字式湿度计、毛发式湿度仪器。相对湿度测试的测点、测试频度和时间与温度测试时间相同，宜一同测试。药厂净化车间空调处理机组包括新风段、回风段、混合段、初效段、表冷段、加热加湿段、风机段、中效段、送风段等，经风管分配到末端***过滤器，再将洁净、温湿度适宜的风送到各房间，因此，风机盘管和空调机组的节能在整个***空调系统节能效能中也很重要。超净台一般是经过高xiao空气过滤器正压吹向样品，净化厂房，可以防止样品在操作过程中交叉污染。其中，初效、中效和***过滤器应选择风阻小、过滤效果高的滤材和产品;表冷和换热器盘管的材质一般选用传热的薄壁铜管，采用的亲水翅片以提高系统设备的传热效率;选用保温效果好的保温材料等。这些都是切实可行的药厂净化车间节能方法。)