掩膜的用法1提取感兴趣区：用预先制作的感兴趣区掩膜与待处理图像相乘，得到感兴趣区图像，感兴趣区内图像值保持不变，而区外图像值都为0；2屏蔽作用：用掩膜对图像上某些区域作屏蔽，使其不参加处理或不参加处理参数的计算，或仅对屏蔽区作处理或统计；3结构特征提取：用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图像中与掩膜相似的结构特征；4特殊形状图像的制作。光掩膜版制造行业的发展趋势关键受中下游平板显示制造行业、触摸制造行业、电子行业和线路板制造行业的发展趋势危害，与中下游终端设备制造行业的流行消费电子产品（手机上、平板电脑、智能穿戴设备）、笔记本、车载电子、通信网络、电器产品、LED照明灯具、物联网技术、医i疗电子器件等商品的发展趋向息息相关，预估将来两年在我国光掩膜版制造行业将向几寸、精细化管理、产业链方位发展趋势。2011年在我国光掩膜版生产制造经营规模为0.87万平方，2016年生产制造经营规模提高至1.69万平方，年复合增长率超过14.20%。公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！去胶刻蚀或离子注入之后，已经不再需要光刻胶作保护层，可以将其除去，称为去胶，分为湿法去胶和干法去胶。光刻的优点1、地控制形成形状的大小和样子2、它可以同时在整个芯片表面产生外形轮廓。缺点1、必须在平面上使用，在不平的表面上效果略差；2、对生产环境的清洁度要求极高！掩膜板的定义:一般用在芯片制造上,也称光罩,***过程中的原始图形的载体，通过***过程，这些图形的信息将被传递到芯片上。光刻产品的遮挡，防止光的衍射.掩膜板的产品特点：按客户图低制作，产品厚度0.10mm，(图中所有孔精度要求小于±5μm，所有孔的位置精度为小于±10μm）。我国主要需求量主要在北京、上海、长三角、珠三角等发达地区。)