净化车间参数:换气次数:100000级≥15次;10000级≥20次;1000≥30次。压差:主车间对相邻房间≥5Pa平均风速:10级、100级0.3-0.5m/s;温度冬季gt;16℃;夏季lt;26℃;波动±2℃。湿度45-65%;GMP车间湿度在50%左右为宜;电子车间湿度略高以免产生静电。噪声≤65dB(A);新风补充量是总送风量的10%-30%;照度300LX.净化车间洁净度级别：百级gt;千级gt;万级gt;十万级gt;三十万级也就是说值越小，净化级别就越高。洁净度越高造价就越高。净化车间施工验收规范:施工项目之通风拄井是通过由彩钢板安装而形成的通风管道。一般设置于洁净去内，其上可安装通风口，通过设计使洁净区内气流布置合理，经常别回风系统和排风系统采用。结构形式上有三角行柱和方形柱两种。.无尘车间施工验收规范:施工项目之一：洁净密闭门,洁净密闭门分铝合金门和彩钢板门两中。门扇轻，钢性好，密闭性能佳，产品整体性能好，表面平整，光滑，耐腐，不易积尘，外型美观高雅，启闭灵活，经久耐用，具有隔音，保温，防火等优点。具体规格可以根据用户的要求设计，制造。相对湿度越高,粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。1级：尘埃易使芯片失效或者稳定性下降，当金属尘埃落于集成电路上时，就可能造成短路。当空气中的酸性离子落在电路上时，可能将电路腐蚀，因此净化空调系统对微电子工业而言至关重要。此外，液晶、光纤的生产也需要1级洁净度的要求。我们国家的空气分子控制等的技术正在朝有利的方向发展，这项技术原先是由日本发展起来的，现在已经受到了全世界的关注和认可，在我们国家，这项技术已经受到了相关行业的重视并且投入研发，相信在不久的未来，我们国家的相关科研人员一定会在这个领域取得让人满意的成绩，为我们国家的净化工程行业做出贡献。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。设计净化系统组织的原则是相邻二级过滤器的效率不能太接近，也不能相差太大。一般采用初效、中效、亚(或)三级过滤器。也可分四级，增加一级过滤器。现在我们国家的净化工程已经在朝着节能的方向发展了，除了专业人士以外，其他人很少知道净化工程的耗能量特别大，时候普通写字楼的20倍，比美国更发达国家高出了15%。看到这些令人心惊的数字，我们国家的科学家们从节能的角度出发从根本上出出发，设计出能够节省的相关设备。)