简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。物***相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。20世纪70年代，在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。相对于传统镀膜方式，真空镀膜应用属于一种干式镀膜，它的主要方法包括以下几种：真空蒸镀其原理是在真空条件下，用蒸发器加热带蒸发物质，使其气化或升华，蒸发离子流直接射向基片，并在基片上沉积析出固态薄膜的技术。溅射镀膜溅射镀膜是真空条件下，在阴极接上2000V高压电，激发辉光放电，带正电的离子撞击阴极，使其射出原子，溅射出的原子通过惰性气氛沉积到基片上形成膜层。真空镀膜基础知识一,镀膜作业步骤:准备工作1.镀膜前洗净2.抽检镜片外观确认(裂边,伤痕,不洁)情况,全检镜片锁板情况(镜片倾斜,3.确认好准备镀膜的镜片(数量,机种,面别)并做好相应记录4.上伞,将镜片从包装盒内装到镀膜机台伞架上(主意带手套拿取镀膜板四周,勿碰到镜片5.区分需要镀膜镜片种类面别6.清洁坩埚电子枪周围用铜刷刷,吸,并添加***7.确认晶振片,监控片是否OK在新的位置8.确认机台内无杂物,后关门排气加热9.镀膜选取相应的制程10.人员镀膜过程中进行监控11.下伞将镀膜后的镜片从伞架取下,放入包装盒12.抽检主要为膜点,雾状,颜色异常,不洁13.光谱测量采用奥林巴斯反射测定仪和U4100分光光度计14.伞架每圈抽1PCS共5圈15.膜强度测试(采用3M胶带粘拉膜3次)16.光谱量测OK后可送出)