随着超精密加工和微电子制造技术的迅速发展，对精密测量技术及仪器提出了在毫米级的测量范围内达到纳米级精度的要求，例如超精密数控加工精度已达纳米量级，微电子芯片制造技术已是纳米级制造工艺，因此无论是超精密数控机床的运动测量与***，还是集成电路芯片线宽等特征尺寸测量、光掩膜制作以及晶圆扫描工作台的运动测量与***，均需要纳米级精度的精密测量仪器。IBM新研究的“芯片实验室”病毒检测技术可以让患者在家中分析自己的血液、唾液和尿液，监测自己的健康状况。此外，精密测试计量技术领域中，各种扫描探针显微镜、激光干涉仪、光栅尺和其他位移传感器等也离不开纳米级精度的精密测量仪器的校准或标定。提高分辨力一直是光刻技术发展的主旋律，由瑞利公式R=K1λ/NA可知，缩短波长是提高分辨力的有效手段。每次更短波长光刻的应用，都促使集成电路性能得到极大提升。光电所采用三角法测量，Z向位移转化为标记光栅与检测光栅横向位移ΔX，通过两光路的信号比对横向位移量ΔX进行检测，实现检焦。报告采用内容分析、文献计量和领域分析相结合的方法，通过对比分析美国、英国、法国、德国、俄罗斯、欧盟、日本、韩国、印度、澳大利亚以及我国的纳米技术研发计划，发现各国对纳米技术的信心普遍增强，***力度普遍加大，科研人员数量和相关企业数均大幅增加。该方法的两光路结构设计相同，两信号相位相差，利用两光路的信号比求解硅片的离焦量，消除了光强波动的影响，实现了纳米级的检焦精度。)