光罩的制作过程1.制作石英基板。空白基板通常为6英寸见方，厚度为0.25英寸。它由纯熔融石英制成，光刻版，通常简称为石英。基板表面必须非常平坦且无缺陷。2.沉积吸收层。在基板上是薄的吸收层，可以阻挡来自光刻机的***。3.沉积光刻胶层。在吸收层的顶部是一层薄的光刻胶，暴露在光罩写入机（MaskWriter）之下。4.写入。由光罩写入机完成，使用电子束***光刻胶，将芯片设计的图案数据呈现在光刻胶上。5.烘烤。烘烤***的光刻胶，要求在光罩上的每个点都温度均匀。6.显影。使用显影剂使光刻胶的图像显影，漂洗并干燥而不留下任何残留物。因为光刻胶图案在蚀刻工艺期间用作光罩，所以该显影步骤是关键的，因为显影中的任何不均匀性将导致终图案尺寸的不均匀性。7.蚀刻。然后将显影的光罩放到到蚀刻机中，蚀刻机使用等离子体地蚀刻掉由写入和显影步骤带来的吸收剂材料。8.剥离和清洁。将蚀刻好的光罩装入清洁机器中，清洁机器使用干等离子体或湿化学法剥离光刻胶。9.测量。测量关键尺寸（CD）和图案精度，以确保它们符合客户规格。10.检查。为了验证图案精度，将光掩模加载到Inspection机台中。如果发现缺陷，则对它们进行分类和必要的修复。公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！光罩的总体费用，包括石英，光刻胶等原材料的成本，MaskWriter和Inspection等机台的使用成本，另外还有光罩相关数据的生成，包括OPC、MDP等软件***、服务器使用、和人工开发成本，等等。对于一款芯片，动辄几十道的光罩，需要如此多的步骤，设备、软件、人员缺一不可，费用昂贵也就不足为奇了。掩膜的用法1提取感兴趣区：用预先制作的感兴趣区掩膜与待处理图像相乘，得到感兴趣区图像，感兴趣区内图像值保持不变，而区外图像值都为0；2屏蔽作用：用掩膜对图像上某些区域作屏蔽，使其不参加处理或不参加处理参数的计算，或仅对屏蔽区作处理或统计；3结构特征提取：用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图像中与掩膜相似的结构特征；4特殊形状图像的制作。光刻版-光刻版厂由苏州优版光电有限公司提供。光刻版-光刻版厂是苏州优版光电有限公司（）升级推出的，以上图片和信息仅供参考，如了解详情,请您拨打本页面或图片上的联系电话，业务联系人：马经理。)