公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！集成电路工业中的“掩模”是光掩模屏蔽数据:在半导体制造的整个过程中，部分是从布局到晶片制造的过程，即光掩模或掩模制造。这部分是流程连接的关键部分，也是流程中昂贵的部分。i较高的部分也是限制小线宽的瓶颈之一。光刻技术能够说每一构件全是技术含量很高，步步重重困难。短板关键集中化在镜片、掩膜版、灯源、动能控制板等。下边简单单详细介绍光刻技术的构造和原理：光刻技术的灯源有：激光器，紫外线、深紫外线、极紫外线。如今优i秀技术性是极紫外线。图为要以激光器为灯源的光刻技术简单工作中电路原理图：在生产制造集成ic时，i先在圆晶（硅芯片）表层涂光感胶，再用光源穿透掩模板（等于集成ic电路图纸的胶片照片）直射硅片表层，被光源照射的灯光效果胶会产生反映。自此用特殊有机i溶剂洗掉被直射或是未被直射的胶，电路原理图就印到硅片上。光罩，也叫光掩膜版,英文名字叫Mask，是一种由石英为材料制成的，可以用在半导体***制程上的母版。而这种从光罩母版的图形转换到晶圆上的过程，就像机工作一样。我们可以把光刻机想象成机，把母版的图形印到纸张上的过程，就像光刻机把芯片图形印到晶圆上一样，都需要有母版，这个母版在半导体制造上就是光罩。)