公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！什么叫掩膜i先人们从物理学的视角讨论一下mask究竟是什么全过程。在半导体设备中，很多集成ic加工工艺流程选用光刻技术，用以这种流程的图型“胶片照片”称之为掩膜（也称之为“掩模”），其***是：在硅片上选中的地区中对1个不全透明的图型模版遮住，进而下边的浸蚀或外扩散将只危害选中的地区之外的地区。图象掩膜两者之间相近，用选中的图象、图型或物块，对解决的图象（所有或部分）开展挡住，来操纵图象处理的地区或处理方式。-蚀刻或离子注入完成后，将进行光刻的后一步，即光致抗蚀剂去除，以促进半导体器件制造的其他步骤。通常，在半导体器件的整个制造过程中，执行许多光刻工艺。生产复杂集成电路的过程可能需要多达50个光刻步骤，而生产薄膜所需的光刻步骤数量将更少。集成电路芯片（英文：integratedcircuit，简称：IC；法语：integrierterSchaltkreis）、或称微电路（microcircuit）、微集成ic（microchip）、芯片/集成ic（chip）在电磁学中是这种把电源电路（包括半导体设备，也包含普攻部件等）实用化的方法，并常常生产制造在半导体材料圆晶表层上。上述情况将电源电路生产制造在集成电路芯片表层上的集成电路芯片别称塑料薄膜（thin-film）集成电路芯片。另有种厚膜（thick-film）集成电路芯片（hybridintegratedcircuit）是由单独半导体设备和普攻部件，集成化到衬底或PCB线路板所组成的实用化电源电路。光罩（英文：Reticle,Mask），在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复i制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复i制至相片上。Reticle也称为Mask，翻译做光掩模板或者光罩，曝i光过程中的原始图形的载体，通过曝i光过程，这些图形的信息将被传递到芯片上。制造芯片时用.我们公司做的掩膜版，一般是根据客户的要求做的，客户提供图纸我们加工光刻技术能够说每一构件全是技术含量很高，步步重重困难。短板关键集中化在镜片、掩膜版、灯源、动能控制板等。下边简单单详细介绍光刻技术的构造和原理：光刻技术的灯源有：激光器，紫外线、深紫外线、极紫外线。如今优i秀技术性是极紫外线。图为要以激光器为灯源的光刻技术简单工作中电路原理图：在生产制造集成ic时，i先在圆晶（硅芯片）表层涂光感胶，再用光源穿透掩模板（等于集成ic电路图纸的胶片照片）直射硅片表层，被光源照射的灯光效果胶会产生反映。自此用特殊有机i溶剂洗掉被直射或是未被直射的胶，电路原理图就印到硅片上。)