从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。蒸发源有三种类型。①电阻加热源：用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质,电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高频感应加热源：用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质。③电子束加热源：适用于蒸发温度较高（不低于2000[618-1]）的材料，即用电子束轰击材料使其蒸发。?PVD真空镀膜pvd真空镀膜加工PVD真空镀膜过程的均匀性PVD真空镀膜过程非常复杂，由于镀膜原理的不同分为很多种类，仅仅因为都需要高真空度而拥有统一名称。所以对于不同原理的PVD真空镀膜，影响均匀性的因素也不尽相同。并且均匀性这个概念本身也会随着镀膜尺度和薄膜成分而有着不同的意义。薄膜均匀性的概念：厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。3.晶格有序度的均匀性：这决定了薄膜是单晶，多晶，非晶，是真空镀膜技术中的热点问题，具体见下。主要分类有两个大种类：蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等一、对于蒸发镀膜：一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。真空镀膜基础知识一,镀膜作业步骤:准备工作1.镀膜前洗净2.抽检镜片外观确认(裂边,伤痕,不洁)情况,全检镜片锁板情况(镜片倾斜,3.确认好准备镀膜的镜片(数量,机种,面别)并做好相应记录4.上伞,将镜片从包装盒内装到镀膜机台伞架上(主意带手套拿取镀膜板四周,勿碰到镜片5.区分需要镀膜镜片种类面别6.清洁坩埚电子枪周围用铜刷刷,吸,并添加***7.确认晶振片,监控片是否OK在新的位置8.确认机台内无杂物,后关门排气加热9.镀膜选取相应的制程10.人员镀膜过程中进行监控11.下伞将镀膜后的镜片从伞架取下,放入包装盒12.抽检主要为膜点,雾状,颜色异常,不洁13.光谱测量采用奥林巴斯反射测定仪和U4100分光光度计14.伞架每圈抽1PCS共5圈15.膜强度测试(采用3M胶带粘拉膜3次)16.光谱量测OK后可送出)