厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看（也就是1/10波长作为单位，约为100A），真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，是现在真空镀膜中主要的技术含量与技术瓶颈所在。东莞真空电镀磁场是正交运作的，但你要将真空电镀磁场强度做到均匀是不可能的，一般磁场强的地方，真空电镀成膜厚度就大，相反就小，所以会造成膜层厚度的不一致，不过在生产过程中，由于真空电镀磁场的不均匀导致的膜层不均匀的情况却不是常见的，为什么呢？东莞真空电镀亚气的送气均匀性也会对膜层均匀性产生影响，真空电镀其原理实际上和真空度差不多，因为亚气的进入，真空室内压强会产生变化，均匀的压强大小可以控制成真空电镀膜厚度的均匀性。塑胶真空电镀,塑胶真空电镀加工,塑胶真空电镀厂双面电镀，也可以简化TSV工艺。在标准的工艺中，通孔是部分地在基板上蚀刻后经过电镀铜填充。通过背面研磨基板暴露出孔的另一端，之后经研磨减薄的基板面形成互连。一种双面工艺可以从采用减薄后的基板开始，蚀刻成穿通基板的通孔，并通过单一的电镀工艺对基板双面填充后形成互连。你都了解了吗？)