简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。众所周知，在某些材料的表面上，只要镀上一层薄膜，就能使材料具有许多新的、良好的物理和化学性能。20世纪70年代，在物体表面上镀膜的方法主要有电镀法和化学镀法。前者是通过通电，使电解液电解，被电解的离子镀到作为另一个电极的基体表面上，因此这种镀膜的条件，基体必须是电的良导体，而且薄膜厚度也难以控制。溅射镀膜又分为很多种，总体看，与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为主要参数之一。溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld，组分均匀性容易保持，而原子尺度的厚度均匀性相对较差(因为是脉冲溅射)，晶向(外沿)生长的控制也比较一般。以pld为例，因素主要有：靶材与基片的晶格匹配程度、镀膜氛围(低压气体氛围)、基片温度、激光器功率、脉冲频率、溅射时间。对于不同的溅射材料和基片，***佳参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否精i确控温，能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术，已经比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，工业生产上比较常用的一体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。镀膜制造需要部分耗材1.SIO2颗粒或环状(∮300*∮230*T7.5mm,)需要根据机台配置选用2.TIO2颗粒3.晶振片Filtex6MHZ或INFICON6MHZ4.监控片BK7Φ142*80*1.8mm,需要根据机台配置选用5.铜坩埚,需要根据机台配置选用6.铝箔厚度0.05mm*宽610mm7.电子枪灯丝,需要根据机台配置选用8.离子源,需要根据机台配置选用耗材三,设备日常维修***部件需要根据机台型号选用四,光学镀膜机台品牌分玻璃机和塑胶机配置不一样,尺寸可以选择,900mm,1100mm,1300mm,1350mm,)