低辐射镀膜玻璃的出产工艺分为在线高温热解沉积法（在线法）和离线真空溅射法（离线法）。在线法出产的低辐射镀膜玻璃能够热弯、钢化，能够单片运用，膜层宜面向室内；离线法出产的低辐射镀膜玻璃耐酸碱性和耐磨性差，不能单片运用，在组成中空玻璃时，应将玻璃边部和密封胶接触部位的镀膜去除，镀膜面应坐落中空气体层内，一般装置在中空玻璃的第三面，以充分利用低辐射镀膜玻璃优异的保温功能和遮阳功能。真空镀膜技术一般分为两大类，即物***相堆积（PVD）技术和化学气相堆积（CVD）技术。物***相堆积技术是指在真空条件下，运用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接堆积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物***相堆积方法制得，它运用某种物理进程，如物质的热蒸腾，或遭到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控搬运进程。光学镀膜：减反射膜是应用广、产量大的一种光学镀膜，因此，它至今仍是光学薄膜技术中重要的研究课题，研究的***是寻找新材料，设计新膜系,改进淀积工艺,使之用少的层数，简单、稳定的工艺，获得尽可能高的成品率，达到理想的效果。对激光薄膜来说，减反射膜是激光损伤的薄弱环节，如何提高它的***强度，也是人们关心的问题之一。反射膜：它的功能是增加光学表面的反射率。反射膜一般可分为两大类，一类是金属反射膜，一类是全电介质反射膜。此外，还有把两者结合起来的金属电介质反射膜。)