纳米水滑石保温剂配方类材料在废水处理中的作用1、印染废水的脱色水滑石类材料及其焙烧产物对染料显示出非常好的吸附性能，并且由于廉价的成本而得到广泛应用。2、废水中卤素离子的去除纳米水滑石保温剂配方阴离子交换能力与其层间的阴离子种类有关，层间阴离子交换的次序为CO32-gt;OH-gt;SO42-gt;HPO42-gt;F-gt;C1-gt;Br-gt;NO3-gt;I-。由此可见，高价阴离子易于交换进入水滑石层间，***阴离子易被交换出来。在阻燃过程中，吸热量大，有利于降低燃烧时产生的高温，可以作为无卤高抑烟阻燃剂，广泛应用于塑料、橡胶、涂料等领域。6、焙烧复原法该方法是建立在HTLcs的结构记忆效应基础上的一种制备方法。即指在一定条件下热处理HTLcs后，其焙烧产物即层状双金属氧化物（LDO）加入到含有某种阴离子的溶液中，重新吸收各种阴离子或简单置于空气中，使其能***原来的层状结构，得到新的HTLcs。柱撑过程的选择性与层板组成元素、反应介质、柱撑有机阴离子的空间结构和电子结构相关，这种方式多用于插入较大体积的客体分子。水滑石类辅助热稳定剂水滑石类层状双羟基复合金属氢氧化物(LDH)是具有特殊结构和性能的无机晶体材料，常见水滑石的化学组成包括镁铝复合氢氧化物、层板羟基、碳酸根离子和结晶水。该法突出的优点是消除了与有机阴离子竞争柱撑的金属盐无机阴离子，但缺点是容易生成非晶相物质，且制备过程较为繁琐。利用该法制备的HTLcs易受干燥条件、焙烧温度、焙烧时间、pH值等因素影响，尤其焙烧温度对催化剂碱性和比表面积有较大影响。8、N2保护合成法在合成时向反应体系中不断通入N2。用N2保护通常是出于以下两方面得考虑：一是为了避免合成中一些易被氧化的物质被空气中的氧气氧化；二是在制备非碳酸根型水滑石时防止空气中的CO2的干扰。此种方法适用于较精细的合成。8、N2保护合成法在合成时向反应体系中不断通入N2。用N2保护通常是出于以下两方面得考虑：一是为了避免合成中一些易被氧化的物质被空气中的氧气氧化；二是在制备非碳酸根型水滑石时防止空气中的CO2的干扰。此种方法适用于较精细的合成。)