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真空电镀工艺真空蒸镀法是在高度真空条件下加热金属,使其熔融、蒸发,冷却后在塑料表面形成金属薄膜的方法。常用的金属是铝等低熔点金属。加热金属的方法:有利用电阻产生的热能,也有利用电子束的。在对塑料制品实施蒸镀时,为了确保金属冷却时所散发出的热量不使树脂变形,必须对蒸镀时间进行调整。此外,熔点、沸点太高的金属或合金不适合于蒸镀。置待镀金属和被镀塑料制品于真空室内,采用一定方法加热待镀材料,使金属蒸发或升华,金属蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金属薄膜。在真空条件下可减少蒸发材料的原子、分子在飞向塑料制品过程中和其他分子的碰撞,减少气体中的活性分子和蒸发源材料间的化学反应(如氧化等),从而提供膜层的致密度、纯度、沉积速率和与附着力。通常真空蒸镀要求成膜室内压力等于或低于10-2Pa,对于蒸发源与被镀制品和薄膜质量要求很高的场合,则要求压力更低(10-5Pa)。镀层厚度0.04-0.1um太薄,反射率低;太厚,附着力差,易脱落。厚度0.04时反射率为90%在形成金属晶体时又可分为同时进行的俩个过程,结晶核心晶核的生长和成长过程。这俩个过程的速度决定着金属结晶的粗细程度。如果晶核的生成速度较快,而晶粒生成后的成长速度较慢,则生成的晶核数目较多,晶粒较细。反之晶粒就较粗,也就是说,在电镀过程中当晶核的生成速度大于晶核的成长速度时,就能获得结晶细致,排列紧密的镀层,晶核的生成速度大于晶核成长速度的程度越大,镀层结晶越细致,紧密。结晶***较细的镀层,其防护性能和外观质量都较理想。实践表明,提高金属结晶时的阴极化作用超过一定的范围,会导致氢气的大量析出,从而使镀层变得多孔,粗糙,疏松,烧焦,甚至是粉末状的,质量反而下降)
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