点可蒸发任何材料薄膜纯度高直接作用于材料表面，热缺点电子枪结构复杂，造价高化合物沉积时易分解，化学比失调3激光蒸发镀膜采用高能激光束对材料进行蒸发，用以形成薄膜的方法，一般称为激光蒸镀。优点薄膜纯度高蒸发速率高特别适合蒸发成分复杂的合金或化合物，膜层的化学计量比与靶材保持一致缺点易产生微小颗粒飞溅，影响薄膜质量镀料原子、分子或离子在基体上沉积：工件表面上的蒸发料离子超过溅失离子的数量时，则逐渐堆积形成一层牢固粘附于工件表面的镀层。离子镀时，蒸发料粒子电离后具有三千到五千电子伏特的动能，高速轰击工件时，不但沉积速度快，而且能够穿透工件表面，形成一种注入基体很深的扩散层，离子镀的界面扩散深度可达四至五微米，也就是说比普通真空镀膜的扩散深度要深几十倍，甚至上百倍，因而彼此粘附得特别牢。古铜色劈裂电弧涂层，含Si纳米复合涂层，极高抗热性能，适合硬切削，纳米硬度4300Hv，纳米厚度1~3μm。摩擦系数0.3。应用温1200℃.加工硬度可达65HRC.用途：特适合加工淬火、钢淬火硬钢、不锈钢、沉淀硬化不锈钢8)黑色劈裂电弧涂层，纳米厚度1-3μm，加工硬度可达58HRC.用途：特适合加工不锈钢、钛合金、沉淀硬化不锈钢、铜合金、铝合金)