微弧氧化技术的发展微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院（低能核物理研究所）（北京市辐射中心）1992年起开发的科研课题，先后得到***教委、***九五863高技术研究发展计划、***自然科学基jin的大力支持。1997-1998年完成***“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”，1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过***教委和863***组的联合***鉴定。2002年微弧氧化设备获得******新产品证书，2004年微弧氧化双极性大功率脉冲电源获得发明专利。3、允许温度变化范围宽，电解液允许的温度范围一般为10-70℃。微弧氧化技术、微弧氧化生产线、微弧氧化电源微弧氧化技术特点（1）氧化膜具有陶瓷结构特征。（2）原位生长。（3）氧化膜均匀增厚。（4）无污染：无环保限制元素加入，基本无废水排放。制备工艺简单。（5）表面硬度高，显微硬度在400至1500HV；（6）耐磨损性能与硬质合金相当；（7）耐腐蚀性能：盐雾试验铝合金1000－2000小时；镁合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。（8）耐热性能：300℃水中淬火35次未见变化，1300℃冲击5次不脱落、不龟裂。（9）绝缘性能：膜厚不同,表面电阻达109－12Ω微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线、微弧氧化生产线、微弧氧化工艺。微不同电泳工艺所得膜层的截面形貌（a)直接电泳电泳层表面高低不平，与基体间存在明显的分界线，且界面处有大量气孔.（b)微弧电泳电泳层嵌入微弧氧化陶瓷层的微孔，具有了机械咬合力，膜层间的结合力强。直接电泳有机层的附着力差，经划圈试验有机层已部分脱落，附着力等级仅为4级；微弧电泳复合膜层的附着力等级为1级，相对于直接电泳有机层的附着力有很大提高)