多源有机无机蒸发?系统300C有机无机联合蒸发镀膜机批发多源有机无机蒸发系统想了解更多关于电阻热蒸发镀膜产品的相关资讯，请持续关注本公司。主要用途：用于纳米级单层及多层金属膜、半导体膜等新材料的制备。广泛应用于大专院校的薄膜材料科研。系统组成:由真空室、蒸发源、样品台、真空测量、膜厚测试、电控系统组成。技术指标：极限真空度5.0×10-5Pa，系统漏率：1×10-7PaL/S；***真空时间：40分钟可达6.6×10Pa真空室：D形真空室，尺寸350×380mm样品台：尺寸为4英寸厚度3mm的平面样品；电极：数量：4支水冷结构；直径Φ20㎜样品基片:，基片在镀膜位置实现自转。基片的温度从室温至600℃4套挡板系统：基片挡板与源挡板；靶挡板共有3套，样品挡板（１套）石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统。欢迎拨打图片上的***电话或关注沈阳鹏程真空技术有限责任公司！300C有机无机联合蒸发用于制备导电薄膜，半导体薄膜，铁电薄膜，光学薄膜等。该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。极限真空度：≤6.7×10Pa***真空时间：从1×10Pa抽至5×10Pa≤20min系统漏率：6.7×10-7Pa.L/S；真空室：Ф400x400mm圆筒型真空室，蒸发源：1-4个，采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。蒸发温度：加热温度：室温～1800℃；蒸发舟在距中心100～160mm的圆周上；蒸发舟可上下升降，调节幅度0～150mm（样品中心与坩埚距离150~300mm）；工作架类型及尺寸：样品托盘直径Φ300mm，其上可放多个直径20mm的小样品；样品托盘具有自转功能，转速在0～20转/分钟，转速可调；样品托盘可摆角，角度在0～30度可调；烘烤温度：400℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到700℃）电阻蒸发源：电压5V，10V，功率2.5KW，水冷电极1~4对想要了解更多沈阳鹏程真空技术有限责任公司的相关信息，欢迎拨打图片上的***电话！钙钛矿镀膜设备以下内容由沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您提供，今天我们来分享电阻热蒸发镀膜产品的相关内容，希望对同行业的朋友有所帮助！设备用途：适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域设备组成：该设备主要由沉积室、真空排气系统、真空测量、蒸发源、样品加热、电控系统、等部分组成。1、镀膜室：方形前后开门结构，内带有防污板。2、真空度：镀膜室的极限真空≤5×10-5Pa；3、蒸发源系统：有机源蒸发源4个，无机蒸发源2套4、样品架系统：样品大小为Φ150mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；5、样品在镀膜过程中，可烘烤加热，加热温度为：室温～190℃，测温控温。6、膜厚控制仪：测量范围0-999999?)