真空镀膜技术是一种新颖的材料合成与加工的新技术，是表面工程技术领域的重要组成部分。而它的薄膜监控方式有多种，下面就和我们一起来看看真空镀膜设备的一些主要监控方式吧。一、定值监控法。此办法使用停镀点不在监控波长四分之一波位，然后由计算机计算在波长一时总膜厚之反射率是多少，此即为中止镀膜点。二、目视监控。使用双眼监控，因为薄膜在成长的过程中，因为干涉现象会有色彩改变，我们即是依据色彩改变来操控膜厚度的，此种办法有必定的差错，所以不是很好，需求依托经历。真空检测系统目前基本都是用复合真空计，热偶规电离规的组合，这个组合在遇到充入大量含有C元素的气体的工艺，电离规很容易毒化，造成电离规损坏，如果镀制含有大量C元素的气体的工艺，可以考虑，配置电容薄膜规。抽真空系统目前基本的抽真空系统是扩散泵系统和分子泵系统。分子泵系统属于清洁抽气系统，没有扩散泵的返油现象，抽速也相对比较稳定，而且比较省电。真空镀膜机首要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射堆积等很多种。首要思路是分红蒸发和溅射两种。沉积材料广泛：可沉积铝、钛、锆等湿法电镀无法沉积的低电位金属，通以反应气体和合金靶材更是可以沉积从合金到陶瓷甚至是金刚石的涂层，而且可以根据需要设计涂层体系。需要镀膜的被变成基片，镀的材料被变成靶材。基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子方法被蒸发出来，而且沉降在基片表面，经过成膜进程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）构成薄膜。)