在芯片制造领域，光刻机和蚀刻机一直是芯片制造领域的关键。在业界有个形象的比喻，光刻机是芯片制造的魂，蚀刻机是芯片制造的魄，如果要想制造的芯片，这两个东西都必须。而在光刻机方面，与世界的7nm制程都相去甚远。不管三星、英特尔还是台积电在芯片制程工艺方面如何去竞争，但A***L终究是背后霸主，赢家，因为他们谁都离不开他的EUV光刻机。而国产光刻机还在路上，目前我国已经能够使用365纳米波长的光生产22纳米工艺的芯片，这在全世界尚无先例，它也被称为世界上首台分辨力的紫外超分辨光刻装备。这也意味着国产光刻机可以使用低成本光源，实现了更高分辨力的光刻。其次蚀刻机的均匀性对蚀刻产品影响也比较大。蚀刻机的均匀要可以调节，那么就要让喷淋管能实现***压力控制，这样根据不同尺寸的产品对压力进行微调（大尺寸的板水池效应大），从而得到一个较佳的均匀性。通常设备精度好不好，就是通过蚀刻均匀性好不好来衡量的。由于蚀刻是一个放热的化学反应，所以完善冷却系统是很有必要的，而且冷却管表面积需要符合满载的时的放热量的及时冷却，温度不宜超过2度，超过2度以上还不能冷却到设定温度，说明设计冷却盘的面积过小，满载生产时会出现超温导致必须停止生产。激光蚀刻机相对于传统的湿法蚀刻，激光蚀刻不直接接触材料表面、CAD图纸直写，无须掩模，因此可靠性更强，良率更高，一致性更好，蚀刻线宽大小可调，图形任意，该技术已经广泛应用于触摸屏，LCD，PDP，电子书，OLED等工业生产。而在其他应用领域，尤其是一些更高要求的多层次材料的选择性蚀刻，是其他传统方法无法做到的。)