光学镀膜由薄的分层介质构成的，经过界面传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的使用始于20世纪30年代。现代，光学薄膜已广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。吸收介质：能够是法向均匀的，也能够是法向不均匀的，实际使用的薄膜要比抱负薄膜复杂得多，这是因为，制备时，薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料，其表面和界面是粗糙的，从而导致光束的漫散射，膜层之间的相互渗透形成扩散界面，因为膜层的成长、结构、应力等原因，形成了薄膜的各向异性，膜层具有复杂的时刻效应。在上世纪70年代曾经，镜头镀膜办法大多以化学反应为主。这种办法有必要严格的操控化学溶液的浓度和架桥剂的组合，进行反应的时刻和条件等。由于，仅能小量批次出产，所取得的质量良莠不齐。比较常用的加工法：一为浸镀法，另一则为喷镀法。浸镀法是依据欲装备膜的性质制备含有成分的溶液，然后将玻璃加热到一定温度，放入装备好的化学溶液里，拿出，烘干。与链条式传送机构相比，该机构为刚性传送，不存在齿合不准确问题同时，由于需要的过渡空间小，可以节约真空室之间阀门的开关时间、进一步减少不同真空室之间的气氛互串。因而极大的提高了镀膜工艺稳定可靠性、成品率，降低能耗和成本等。随着镀膜技术的发展，各类真空镀膜机也逐渐出现，不管是哪种真空镀膜机，薄膜的均匀性都会受到一些因素的影响。现在，我们就以磁溅射真空镀膜机来分析成膜不均匀的因素。)