蚀刻1、正式蚀刻把坚好膜的铜材放在入料口的合适位置，按下蚀刻开关，蚀刻机就开始对铜材进行蚀刻，根据要求控制好蚀刻机传输速度，从而控制蚀刻深度。蚀刻略浅，只需蚀刻出图案花纹即可，之后由盖油工程师对蚀刻后的铜材进行精准***的盖油，以保护底纹，露出需打穿的部分，烘干、再进一次蚀刻机，打穿成型。2、褪膜使用专用的退膜机进行褪膜处理，褪膜后用清水冲洗干净，再用烤箱烘干。3、打磨***打磨抛光人员对卡片纯手工抛光打磨，要求一次一张，打磨后边缘无任何水口位残留毛刺，摸上去手感平滑顺畅。无论是高精密蚀刻机還是片式蚀刻机，還是辊子蚀刻机，稳压泵输出功率一定要大，才可以处理蚀刻速度更快，表面整平的难题。另外还一定要保证蚀刻机总体系统软件不可以要走电现像，在蚀刻段如果有走电的现像，一是给作业者产生不安全的要素，还有一个就是说在半蚀刻表面会出現凸凹不平，等于电解法效用会另外开展，非常是是间越长，主要表现的现像会更显著，有较强的不锈钢抛光感。这类现像小编在304不锈钢板模板中发觉此难题。刻蚀机和光刻机的区别：光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案（或者没有图案）的部分，留下剩余的部分。刻蚀相对光刻要容易。如果把在硅晶体上的施工比成木匠活的话，光刻机的作用相当于木匠在木料上用墨斗划线，刻蚀机的作用相当于木匠在木料上用锯子、凿子、斧子、刨子等施工。蚀刻机和光刻机性质一样，但精度要求是天壤之别。木匠做细活，一般到毫米就行。做芯片用的刻蚀机和光刻机，要到纳米。现在的手机芯片，如海思麒麟970，高通骁龙845都是台积电的10纳米技术。10纳米有多小呢？打个比方。如果把一根直径是0.05毫米头发丝，按轴向平均剖成5000片，每片的厚度大约就是10纳米。现在***的光刻机是荷兰的A***L公司，到10纳米。台积电买的都是它的光刻机。A***L公司实际上是美国、荷兰、德国等多个***技术合作的结果。因为这方面的研究难度太大，单个***完成不了。除了A***L，世界上只有我们还在光刻机上努力研发。)