什么叫光刻掩模版在塑料薄膜、塑胶或夹层玻璃化学反应原材料上制做各种各样作用图型并精i明确位，便于用以光致抗蚀剂镀层可选择性曝i光的这种构造，称之为光刻掩模板。集成电路工业中的“掩模”是光掩模屏蔽数据:在半导体制造的整个过程中，部分是从布局到晶片制造的过程，即光掩模或掩模制造。半导体材料集成电路芯片制做全过程一般必须历经数次光刻工艺，在半导体材料结晶表层的物质层上开掘各种各样夹杂对话框、电级触碰孔或在导电性层上刻蚀金属材料互联图型。光刻工艺必须整套（几片多至十几元）相互之间能精i确套准的、具备特殊图形的光打印掩蔽模板。硅片上带了电路原理图的样图后，就到刻蚀机出场，刻蚀机等于木工的锯子、斧子、木工凿、刨刀。4色就是说出出去是四张片,假如有专色就多1个i色,或许也是将会是相映两色的。刻蚀机按图工程施工，在硅片表层手工雕刻出三极管和电源电路。集成ic关键是精密度规定高。纳米技术精密度是啥定义呢？是人们人眼没法辨别的，大约等于一条发丝的5000分之一纳米技术细微。光刻技术好多个核心部件：灯源：务必平稳、高品质地出示指i定光波长的光线。动能控制板：就是说开关电源。开关电源要平稳、输出功率要充足大，不然灯源超声波发生器没法平稳工作中。大、稳、一起要考虑到经济发展特性。耗电量太高，顾客就用不了。公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！光罩（英文：Reticle,Mask），在制作IC的过程中，利用光蚀刻技术，在半导体上形成图型，为将图型复i制於晶圆上，必须透过光罩作用的原理，类似于冲洗照片时，利用底片将影像复i制至相片上。)