PECVD等离子增强化学气相淀积系统STS310PECVD_allwin21SYSTEMSPECIFICATIONANDTECHNICALDATAHighTemperatureElectrode(allowsupto360degreeC)Canbeconfiguredfor6x3",or4x4"wafers4"pumpingport,throttlevalve,highvacvalve,foreline.CurrentGasconfiguration.Gaslines-MFCareTylan2900typeSF6orCF4MFCN2OMFCNH3–50sccm,MFCO2–3000sccm,MFCSiH4-3000sccmMFCO2isinterlockedfromNH3,SiH4linesRFpowersupply:187.5KHz,500wattsoutputand13.56MHzwattsoutput.Thereisaswitchfor187.5KHzRFPower500Wtodoublethefrequencytobe375KHz.Edwa***E2M40rotarypumpwithEdwa***250blower.本公司可提供涵盖快速退火、去胶、刻蚀、测试等工艺的全新或翻新的半导体设备及备件。通过技艺精湛的设备翻新和***的软件升级及技术测试，可以保证我们的设备具有出色的运作表现，能够满足客户的多种需求，降低客户的生产成本。本公司有快速退火炉RTP（保护气氛热处理炉）Allwin21AG610、EG2001/2010/1034探针台;HP4062/HP4145测试仪;AW-PCM测试软件；探针台WentworthMP2020；PECVD等离子增强化学气相淀积系统STS310PECVD_allwin21等.公司在北京、南京、广东等地设有办事机构，致力于为客户提供完善的服务与支持。)