光学微电子净化工程亦名洁净室或清静室，现阶段已成半导体材料、高精密制造、液晶显示屏制造、光学制造、pcb线路板制造和细胞生物学、药业、食品类制造等制造行业必不可少的关键设备。近年来，因为技术性之改革创新，针对商品的高精度化、细实用化之要求更加急切，如特大型积体电路之科学研究制造，已变成世界各地在智能科技上极其高度重视的新项目，可是我企业的设计构思及施工工艺在制造行业中则处在领1先水平。光学微电子净化工程一般包括：1、清洁生产区2、清洁輔助间（包括工作人员清洁用地、原材料清洁用室和一部分衣食住行用室等）3、管理区（包括办公室、值勤、管理方法和歇息等）净化室之工程建筑行为主体构造，一般是用建筑钢筋或骨水泥，但不论是哪种构造，务必考虑以下之标准：(1)不容易因温度转变与震动而产生裂缝。(2)不容易造成浮尘粒子，且没办法粘附粒子。(3)吸湿性小。(4)以便保持房间内之环境湿度标准，热介电强度要高。进到洁净区的空气，历经初效(别称粗效)、中效过滤器、高1效率三级过滤装置过虑，使空气做到所规定的清洁级別。因为***送风口能够滤除工业洁净工程：亦称之为洁净室或无尘室。就是指将一定室内空间范围内之空气中的微粒子、危害空气、病菌等空气污染物清除，并将房间内之温度、洁净度等级、房间内工作压力、气流速度气流遍布、噪音震动及照明灯具、静电感应操纵在某一要求范围内，而所给与非常设计方案之屋子。工业生产净化室管控规定(1)能去除空气中飘游之微尘粒子。(2)能避免微尘粒子之造成。(3)温度和环境湿度之操纵。(4)工作压力之调整。(5)***物质之清除。(6)构造物与隔断之密封性。(7)静电感应之防制。(8)干扰信号防止。(9)安全性要素之考虑到。(10)环保节能之考虑。)