1）主要用于单、多晶硅太阳能电池片生产,刻蚀后的清洗。2）工艺流程：上料→HF腐蚀+氮气鼓泡→QDR+氮气鼓泡+喷淋→下料→离心机甩干3）设备采用单臂机械手，其工艺时间可以自行调节。能显示温度曲线、浓度变化曲线，及各个工位的工作状态。酸槽具有自动补液装置，可实现无间断生产。具有设备报警说明，报警历史查询功能。对清洗用纯水有电阻率监测装置，能存储10个以上工艺方案；4）标准工艺下产量：125mm×125mm、156mm×156mm、210mm×210mm的硅片，厚度为160&plu***n;30——200&plu***n;30微米的硅片，硅片产能不低于1200片/小时设备开工率＞92﹪，碎片率≤3‰。)