真空镀膜的介绍薄膜具有许多特有的性质，因此引起了科学工作者的极大关注．近年来，薄膜的研究和应用得到了迅速的发展，并且己形成一个专门的物理学分支一—薄膜物理学。真空镀膜是一种在许多领域(如电子工业、光学仪器制造、薄膜研究等)中有着广泛应用的实用技术．真空镀脂较之传统的电镀、化学镀具有许多优越性，如纯度高、均匀性好、膜厚可以严格控制、材料种类多样．既可镀金属膜、又可以镀介质膜，而且制备方法简单。利用真空镀膜技术在平面玻璃上镀制铝膜反射镜，已广泛应用于工业生产中，但要在不同形状(如保温瓶的内胆)、不同材料上(如塑料、石膏)镀制铝膜、铜膜，则是需要很特殊的方法．如保温瓶(杯)反射膜的以铝代银，可以为***节约大量***银．市面上那些闪光发亮的仿金、仿铜制品(如镜框)，达到了以假乱真的程度，其实它们都是在塑料(一般是再生塑料)坯体上，用真空镀膜工艺镀上一层铝胺。***后，结合真空的特色镀膜设备不必担心产品镀膜过程受杂质影响问题，在完全真空条件下镀制均匀、致密、附着力强的膜层，使用多种技术满足不同产品镀膜要求。用磁控靶源溅射金属和合金很容易，点火和溅射很方便。这是因为靶（阴极），等离子体，和被溅零件真空腔体可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源，回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。但高频磁控溅射电源昂贵，溅射速率很小，同时接地技术很复杂，因而难大规模采用。为解决此问题，发明了磁控反应溅射。就是用金属靶，加入反应气体如氮气或氧气。当金属靶材撞向零件时由于能量转化，与反应气体化合生成氮化物或氧化物。在所述加强圆槽底部设有用连接现有真空镀膜机的待冷却外壁的安装孔。)