对于蒸发镀膜:一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。厚度均匀性主要取决于:基片材料与靶材的晶格匹配程度，基片表面温度，蒸发功率，速率，真空度，镀膜时间，厚度大小。组分均匀性:蒸发镀膜组分均匀性不是很容易保证，具体可以调控的因素同上，但是由于原理所限，对于非单一组分镀膜，蒸发镀膜的组分均匀性不好。薄膜均匀性概念：厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。PVD镀膜的工作方式是：PVD镀膜将钨片做成船状，然后安装在两个电极中间，再热传导给PVD镀膜材料，当钨舟的热量高于PVD镀膜材料熔点的时候，材料就升华或者蒸发了。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。沈阳诺思真空技术有限公司（原沈阳天成真空技术有限责任公司）成立于2012年，是以超高真空技术为基础、从事各种真空应用设备研发、生产和销售为一体的技术型企业。怎么样降低手机辐射对***健康的影响，已成为摆在我们面前的一个急需解决的问题。应用手机真空镀膜技术，就可以比较好地解决这个问题。CdTe属一V族化合物半导体其结构与Si、Ge有相似之处，即其晶体主要靠共价键结合，但又有一定的离子性，与同一周期的W族半导体相比，CdTe的结合强度很大。真空镀膜是在原子水平上进行材料生成的技术，镀层的晶料度在10纳米左右，属于纳米材料的范畴。通过对手机壳内壁真空镀电磁防护膜层，可以极大地防止因电磁波辐射而对手机使用者造成的危害。手机真空镀膜技术的研究与应用，不仅推动了手机制造业的发展，也推动了相关产业的发展。)