X-ray应用薄膜窗口（X-RayWindows）有两种薄膜，低应力lpcvd氮化硅膜具很强机械强度，适合高温和差压环境；G-FLAT™氧化硅膜平坦无褶皱，非常适合x射线显微镜和需要无氮气背景的分析。这些薄膜窗口是X射线显微镜和x射线光谱学技术的理想衬底，经过等离子清洗，无有机污染。平坦、均匀沉积的薄膜具有低场到场可变性和高x射线透射性。G-FLAT™氧化硅膜窗口，适合生物成像研究，具有玻璃状亲水表面。外框硅材质，外框大小5*5mm，框厚310µm，膜厚度300nm。无褶皱，与超高真空(UHV)应用兼容。LPCVD氮化硅膜窗口，外框大小5*5mm，框厚320µm，200MP低应力无孔氮化硅。产品信息：货号产品描述窗口(Sq.)膜厚规格76042-10G-FLAT™SiOX-RayWindow500µm100nm20/pk76042-11G-FLAT™SiOX-RayWindow500µm300nm20/pk76042-12SiliconNitrideX-RayWindow500µm50nm20/pk76042-13SiliconNitrideX-RayWindow1000µm50nm20/pk76042-14SiliconNitrideX-RayWindow500µm100nm20/pk76042-15SiliconNitrideX-RayWindow1000µm100nm20/pk76042-16SiliconNitrideX-RayWindow1500µm200nm20/pk76042-17SiliconNitrideX-RayWindow2500µm200nm20/pk)