真空镀膜机让镀膜变得简单镀膜过程大致可分为填充、抽真空、镀制、冷却等主要工序，以及与其相关的前后工序，如清洗、开关机、检测等，使用真空镀膜机可以提高镀膜生产效率，减少劳动成本、人工成本，非常适用于大规模生产，并满足环保的要求，让镀膜变得简单。只有满足了真空镀膜设备对环境的要求，才能使该设备正常运转，加上正确的镀膜工艺，方能生产出合格的镀膜产品。真空镀膜机有多种分类，按镀膜工艺技术可以分为蒸发镀膜、磁控溅射镀膜、多弧离子镀膜等；按真空度可以分为低真空、中真空、高真空以及极限真空；按温度可分为低温、高温镀膜；按品种可以分为专用真空镀膜机和通用真空镀膜机；按操作可以分为手动、半自动、全自动真空镀膜机等。薄膜均匀性概念：厚度上的均匀性，也可以理解为粗糙度，在光学薄膜的尺度上看(也就是1/10波长作为单位，约为100A)，真空镀膜的均匀性已经相当好，可以轻松将粗糙度控制在可见光波长的1/10范围内，也就是说对于薄膜的光学特性来说，真空镀膜没有任何障碍。工艺气体，一般均由气瓶供应，经气体减压阀、气体截止阀、管路、气体流量计、电磁阀、压电阀，然后通入真空室。但是如果是指原子层尺度上的均匀度，也就是说要实现10A甚至1A的表面平整，具体控制因素下面会根据不同镀膜给出详细解释。沈阳诺思真空技术有限公司（原沈阳天成真空技术有限责任公司）成立于2012年，是以超高真空技术为基础、从事各种真空应用设备研发、生产和销售为一体的技术型企业。磁控反应溅射绝缘体看似容易,而实际操作困难。这种气体输入系统的优点是，管路简捷、明快，维修或更换气瓶容易。主要问题是反应不光发生在零件表面，也发生在阳极，真空腔体表面，以及靶源表面。从而引起灭火，靶源和工件表面起弧等。其原理是一对靶源互相为阴阳极，从而消除阳极表面氧化或氮化。冷却是一切源（磁控，多弧，离子）所必需，因为能量很大一部分转为热量，若无冷却或冷却不足，这种热量将使靶源温度达一千度以上从而溶化整个靶源。)