反应离子刻蚀的工作原理通常情况下，反应离子刻蚀机的整个真空壁接地,作为阳极,阴极是功率电极,阴极侧面的接地屏蔽罩可防止功率电极受到溅射。要腐蚀的基片放在功率电极上。腐蚀气体按照一定的工作压力和搭配比例充满整个反应室。对反应腔中的腐蚀气体,加上大于气体击穿临界值的高频电场,在强电场作用下,被高频电场加速的杂散电子与气体分子或原子进行随机碰撞,当电子能量大到一定程度时,随机碰撞变为非弹性碰撞,产生二次电子发射,它们又进一步与气体分子碰撞,不断激发或电离气体分子。这种激烈碰撞引起电离和复合。当电子的产生和消失过程达到平衡时,放电能继续不断地维持下去。由非弹性碰撞产生的离子、电子及及游离基(游离态的原子、分子或原子团)也称为等离子体,具有很强的化学活性,可与被刻蚀样品表面的原子起化学反应,形成挥发性物质,达到腐蚀样品表层的目的。同时,由于阴极附近的电场方向垂直于阴极表面,高能离子在一定的工作压力下,垂直地射向样品表面,进行物理轰击,使得反应离子刻蚀具有很好的各向异性。想了解更多产品信息，请持续关注公司网站信息。离子束刻蚀机离子束分析具有一定能量的离子与物质相互作用会使其发射电子、光子、X射线等，还可能发生弹性散射、非弹性散射以及核反应，产生反弹离子、反冲核、γ射线、氢核、氚核、粒子等核反应产物，可以提供有关该物质的组分、结构和状态等信息。利用这些信息来分析样品统称离子束分析。在离子束分析方法中，比较成熟的有背散射分析X射线荧光分析、核反应分析和沟道效应（见沟道效应和阻塞效应）与其他分析相结合的分析方法等。此外，利用低能离子束还可作表面成分分析,如离子散射谱(ZSS)、次级离子质谱(SZMS)等。超灵敏质谱（质谱）、带电粒子活化分析、离子激发光谱、离子激发俄歇电子谱等正在发展中。用于离子束分析的MV级已有专门的商业化设备。离子束刻蚀机由真空室、工作台、快门、真空抽气系统、供气系统、水冷系统、电源和电器系统等主要部分组成,图1-1所示为离子束刻蚀机的工作原理图。该机在正常工作时,首先将真空室的压力抽至2×10-3Pa或更低,再调节Ar气流量,使真空室压力保持在1×10-2~2×10-2Pa(如需要辅助气体,如O2、CH2等,则可按一定比例与之混合),然后启动离子源各电源,使离子源正常工作,从离子源引出一定能量和密度的离子束被中和器发射的电子中和后,轰击工件进行溅射刻蚀。)