等离子干法刻蚀技术是利用等离子体进行薄膜微细加工的技术。在典型的干法刻蚀工艺过程中，一种或多种气体原子或分子混合于反应腔室中，在外部能量作用下（如射频、微波等）形成等离子体，干法刻蚀技术由于具有良好的各向异性和工艺可控性已被广泛应用于微电子产品制造领域，凭借在等离子体控制、反应腔室设计、刻蚀工艺技术、软件技术的积累与创新，北方华创微电子在集成电路、半导体照明、微机电系统、先进封装、功率半导体等领域可提供高端装备及工艺解决方案。形成了对硅、介质、化合物半导体、金属等多种材料的刻蚀能力，其中应用于集成电路领域的硅刻蚀机已突破14nm技术，进入主流芯片代工厂，其余各类产品也凭借其优异的工艺性能成为了客户的。适于在多种金属材料（如不锈钢,碳钢，硬质高速合金钢，铝合金，表面镀铬，镀锌，镀镍）制品上直接标注字符，或印制不锈钢标牌。用来标注产品名称，型号，技术指标，商标，厂名，技术标准，安全事项等内容。其特点只正规，清晰，耐久，不脱落，不变色，操作灵活方便。标注深度约几微米，对壁簿或精零件也无热应力，机械变形影响，不论平面，弧面均能标注。可以采用满版印刷、刷涂、滚涂或喷涂的方式，对油墨涂层的均一性要求不是很高，只要能保证涂层能够在蚀刻时对产品需保护部位得到充分的保护。此工序和制作网板中的涂布工序差不多，只是制作网板是在网砂上涂感光油墨，而金属蚀刻是直接在工件表面涂布热风预烘干（30-40℃，10-15分）目的只是防止曝光时感光油墨粘住菲霖。要在暗室中进行操作。曝光高压灯、碘灯、金属卤素灯。时间：二十秒左右，抽真空；根据工件的精度要求适当调整曝光时间。精度要求越高，曝光时间要适当缩短显影对于水光油墨，可采用1%碳酸钠水溶液或直接用清水，温度25-30℃，手工显影或喷射显影。对于油光油墨，可采用进行手工显影或喷射显影。)