纯净的SF6气体虽然***，但在工作场所要防止SF6气体的浓度上升到缺氧的水平。SF6气体的密度大约是空气的五倍、SF6气体如有泄漏必将沉积于低洼处，如电缆沟中。浓度过大会出现使人窒息的***，设计户内通风装置时要考虑到这一情况。在电弧作用下SF6的分解物如SF4，S2F2，SF2，SOF2，SO2F2，SOF4和HF等，它们都有强烈的腐蚀性和毒性。因此在电力系统GIS等应用SF6的工作场所，要加装SF6气体泄漏监测设备。电子捕获ECD原理电子捕获检测器（electroncapturedetector)，简称ECD。电子捕获检测器也是一种离子化检测器，它是一个有选择性的高灵敏度的检测器，它只对具有电负性的物质，如含卤素、硫、磷、氮的物质有信号，物质的电负性越强，也就是电子吸收系数越大，检测器的灵敏度越高，而对电中性（无电负性）的物质，如烷烃等则无信号。高纯六氟化硫的应用六氟化硫的使用可以增加设备运行的安全性、缩小设备体积、延长设备寿命。近几年，***大力发展基础电力行业，给六氟化硫厂家带来了很大的市场机遇。高纯六氟化硫(纯度在99.99%以上)，国内需求非常旺盛，而且附加值较高。高纯六氟化硫主要用于半导体工业中作清洗气体。六氟化硫的成本只有NF3的几分之一，近年来，各公司以廉价的SF6取代以往CVD工艺中作为清洗气体的NF3的新技术正被广泛研究。该技术在大幅降低液晶产品加工中占相当比例的CVD气体成本的同时，还显示出了极i佳的环保前景，近年来用量有明显的提高。据权i威机构预测，2010年我国将成为仅次于美国的世界第二大集成电路市场，总需求量约为500亿美元。目前国内使用高纯六氟化硫作为蚀刻气的生产线约有50条左右预计。2016年将达到700吨左右，国内使用六氟化硫作为蚀刻气的生产线有近50条，在未来的五年预计将有20条至30条新线建成。每年约消耗高纯六氟化硫为600吨左右。而国内高纯六氟化硫产品远远不能满足市场需求，半导体厂家所用高纯产品大部分依赖进口，这给高纯六氟化企业提供更多的发展机遇。SF6气体的分子具有很好的电负性，能够捕i捉自由电子形成负离子，因此SF6气体的灭弧性能是空气的100倍，大型电力设备中大多使用SF6断路器而不是空气开关。纯品的六氟化硫气体灭弧后能够迅速***还原，所以可以在设备中反复使用，非常适合需要频繁操作的场所。但是如果SF6气体质量不合格，杂质尤其是水分超标，出现六氟化硫微水过多的问题，在高压电弧的作用下，就会生成亚***、***等***腐蚀性产物。六氟化硫气体水分的危害非常大！)